Determinación de la pérdida de suelo y el escurrimiento superficial, bajo dos sistemas de labranza en el cultivo de avena (avena sativa l.) en la Granja Experimental La Pradera - Chaltura

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2019-07-15

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03/AGP/ 246

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La erosión hídrica es considerada una de las principales causas de degradación de los suelos a nivel mundial. En Ecuador, el 47% de los suelos agrícolas están afectados en algún grado por erosión hídrica, lo que ha ocasionado un fuerte impacto económico y ambiental. Los objetivos de este estudio fueron determinar el coeficiente de escurrimiento superficial (Kr), cuantificar la pérdida de suelo y evaluar el rendimiento del cultivo (Avena sativa L.) bajo dos sistemas de labranza. El área de estudio estuvo ubicada en la Granja Experimental “La Pradera UTN”. Se establecieron parcelas de escurrimiento de 200 m2 (10 m x 20 m) en una ladera de un 25% de pendiente. Los sistemas de labranza evaluados fueron: Mínima Labranza (ML) con curvas de nivel cada 7 m y Labranza Tradicional (LT). El escurrimiento superficial fue determinado colocando en cada unidad experimental dos tanques colectores de agua con una capacidad de 244 litros. El primer tanque constaba de 18 orificios y uno de ellos fue conectado al segundo tanque. Para la variable pérdida de suelo se realizó una alícuota en laboratorio después de cada evento de lluvia y el rendimiento se evaluó al final del ciclo del cultivo. Las lluvias ocurridas en el mes de mayo ocasionaron un alto escurrimiento superficial, con una precipitación acumulada de 180.53 mm, en donde el sistema de mínima labranza tuvo un porcentaje de escurrimiento de tan solo 8% mientras que el sistema de labranza tradicional tuvo un coeficiente de escurrimiento de un 25%. Para la variable de pérdida de suelo, el sistema LT fue mayor en un 90% que el sistema de ML. Con respecto al rendimiento del cultivo en grano y biomasa aérea, ML presentó valores superiores a LT.

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Determinar la pérdida de suelo y el escurrimiento superficial, bajo dos sistemas de labranza en el cultivo de avena (Avena sativa L.).

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